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光谱椭偏仪(PHE)
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联系人: 李先生
所在城市: 北京市 北京
详细地址: 北京市朝阳区朝外大街甲6号万通中心B座4A-18
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详细信息

技术参数 膜厚范围:0-30000nm 折射指数:± 0.0001 厚度准确度:± 0.01nm 入射角度:20 - 90° 波长范围:250-1100nm(深紫外、近红外、红外可选) Psi=±0.01°,Delta=±0.02° 主要特点 高精度测量; 变角度功能; 全光谱测量;仪器介绍 ***高精度光谱椭偏仪!可以精确测量折射指数、消光系数(n & K),膜厚等,广泛适用于半导体、电介质、聚合物、金属等材料,单层薄膜和多层膜。***客户包括US Army Research Lab,NASA,NIST,UC Berkeley,MIT,Harvard,Honeywell和Sharp Microelectronics等; 根据客户需求,可提供不同型号: 变角度单波长椭偏仪(632.8nm); 变角度多波长椭偏仪(532, 632.8, 1064nm, …); 变角度光谱椭偏仪(深紫外、紫外-可见-近红外光谱190-2300nm); 全自动光谱椭偏仪(深紫外、紫外-可见-近红外光谱190-2300nm); 红外光谱椭偏仪等;

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